EUV光源的技术基本只掌握在花旗国Cymer公司手中，星光科技公司作为一家华夏公司，基本上不可能与対方达成技术合作，因为花旗国政府，就不会同意。

EUV光刻机——顶级科学与顶级制造的结合。

EUV波长只有13.5nm，穿透物体时散射吸收强度较大，这使得光刻机的光源功率要求极高，此外机器内部需是真空环境，避免空气对EUV的吸收，透镜和反射镜系统也极致精密，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也需要更先进技术去提升。

一台EUV光刻机重达180吨，超过10万个零件，需要40个集装箱运输，安装调试都要超过一年时间。总之，EUV光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。

所以EUV不仅是顶级科学的研究，也是顶级精密制造的学问。

二零一零年首发EUV光刻机，目前成为全球唯一一家EUV光刻机供应商。

二零一零年，阿斯慢首次发售概念性的EUV光刻系统NXW:3100，从而开启光刻系统的新时代。

二零一三年，阿斯慢发售第二代EUV系统NXE:3300B，但是精度与效率不具备10纳米以下制程的生产效益。

今年又推出了第三代EUV系统NXE:3350，但仍然只是试产的性质。

历史上，阿斯慢公司要到明年，也就是二零一六年，第一批面向制造的EUV系统NXE:3400B，才会开始批量发售，

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