光刻机研制难不难？

难！非常难！

但经过一个月的考察，何平意识到这个难在九十年代是有限度的，对比后世与国外二三十年的代际差，现如今应该是国产光刻机研制奋起直追的最好时间。

现如今这个阶段国内科研院所的人才还没有大量流失，国外对中国的技术封锁也有所松动。

最关键的是，何平手上有钱。

这些年来旗下产业的分红加起来已经超过了十亿，这些钱一部分被何平通过手段送到了阿美利加的证券市场，但更多的是放在了手里发霉。

毕竟这年头大规模的外汇兑换不好搞，他人又在国内，手下产业全是赚钱的，想花钱都花不出去。

九十年代初，手握十亿现金的人是个什么级别的富翁？

估计当个中国首富是没什么问题。

何平也知道，在后世全世界最先进的EUV光刻机研制所要消耗的资金都是以百亿来计算的。

但没关系，现在是九十年代，光刻机的研发费用还没攀升到那么高昂的地步，他们现在最需要做的也不是超越，而是赶上。

何平手头的资金足够他们把光刻机研制水平提高一截，未来他旗下企业所创造的利润越来越多，给光刻机研发项目输血不成问题。

而且当年水木大学、中科院可没什么巨额资金，不一样研制出水平不错的光刻机了吗？

1980年，水木大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。

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