周晓东此时继续向杨力持解释道：“这种汞灯光源系统的光刻机设备到时候不合适加工更先进的大规模集成电路设备后依然可以用来加工分立器件、功率器件、模拟芯片等产品，这样的光刻机设备需求量是相当大的，我们并不担心这种设备会被淘汰掉。”

“另外我们研制的电子束系统和离子源其实就是为更先进光源系统做准备的，对于研制出这些高品质的高功率光源系统我本人还是非常有信心的。”

周晓东开口说道：“我们国内的科学家在十多年前就在实验室里面利用利用激光等离子体软Ｘ射线为激励源，观察到离子性氟化氩准分子达到了一百二十五纳米波长的真空紫外辐射，也有这方面的理论模型，我们要做的是让这些理论研究变成实实在在的可用光源系统，然后围绕这些光源系统开发出光刻机的镜头组系统和光刻胶产品。”

“其实我们国内在半导体设备理论研究水平上是不比国外差的，最难的还是在材料制备工艺技术和器件的加工工艺技术上，所以我们现在在这方面投入是很大的，这个可能需要十年甚至更久的时间，一点一点地啃下这里面的硬骨头。”

周晓东开口说道：“这中间可能还会面临失败的风险，需要重新想别的技术方案，不过无论如何我们也要咬着牙把这些挡在面前的拦路虎给搬开，只要我们攻克这些技术难题，在半导体芯片制造环节上就再也不用被人掐脖子了。”

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